Filter UV K&F Concept Nano X MRC, për FujiFilm X100 X100S X100V X100F X100VI, transparent
Në stokPërditësuar më 25 tet 2026
Ky produkt shitet nga Gjirafa50 Kosova në faqen e vet (gjirafa50.com). Porosia, pagesa dhe dërgesa bëhen atje, jo në Alemiin. Çmimin dhe gjendjen i kontrollojmë disa herë në ditë, por vlen ai në faqen e dyqanit.
Gjirafa50 Kosova
Dyqan jashtë Alemiin · porosia bëhet në gjirafa50.com
Specifikimet kryesore
- Kategoria
- Lente & Filtra
- Disponueshmëria
- Në stok
- Përditësuar
- 25 tet 2026
Përshkrimi
Filteri K&F UV Nano-X MRC CONCEPT është projektuar posaçërisht për kamerat FujiFilm X100, X100S, X100V, X100F dhe X100VI, duke mbrojtur lentën nga pluhuri, gërvishtjet dhe gjurmët e gishtërinjve. Veshja nano me shumë shtresa (MRC) ndihmon në uljen e reflektimeve dhe rrit kthjelltësinë e imazhit, veçanërisht në dritë të fortë. Ky filter ruan ngjyrat natyrale dhe nuk ndikon në ekspozim, prandaj mund të mbahet vazhdimisht në lente si mbrojtje shtesë. Dizajni i hollë përshtatet mirë me trupin kompakt të serisë X100 pa shtuar peshë apo volum të tepërt. Ideale për përdoruesit që duan kombinim të mbrojtjes praktike me cilësi të pastër optike.
Detajet:
Historia e çmimit
Çmimi i lexuar nga Gjirafa50 Kosova sa herë që ndryshon · të dhënat që nga 25 tet 2026
Ende pa ndryshime çmimi
Çmimi ruhet sa herë që dyqani e ndryshon.
Tani
3 403 lekë
Më i ulëti
3 403 lekë
25 tet 2026
Mesatarja
3 403 lekë
Më i larti
3 403 lekë
25 tet 2026
Filter UV K&F Concept Nano X MRC, për FujiFilm X100 X100S X100V X100F X100VI, transparent